再循环从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中产生的含浆料的废水的再循环方法和装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201080045398.0
IPC分类号：C02F1/44;B24B37/04;B24B57/02;H01L21/321
申请日期：
2010-10-06
申请人：
高Q-工厂GmbH

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著录项信息

专利名称	再循环从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中产生的含浆料的废水的再循环方法和装置
申请号	CN201080045398.0	申请日期	2010-10-06
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-08-22	公开/公告号	CN102648160A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C02F1/44 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C02 水、废水、污水或污泥的处理 C02F 水、废水、污水或污泥的处理（通过在物质中产生化学变化使有害的化学物质无害或降低危害的方法入A62D 3/00；分离、沉淀箱或过滤设备入B01D；有关处理水、废水或污水生产装置的水运容器的特殊设备，例如用于制备淡水入B63J；为防止水的腐蚀用的添加物质入C23F；放射性废液的处理入G21F 9/04）〔3〕 C02F1/00 水、废水或污水的处理（C02F 3/00至C02F 9/00优先）〔3〕 C02F1/44 渗析法、渗透法或反渗透法〔3〕	IPC分类号	C;0;2;F;1;/;4;4;;;B;2;4;B;3;7;/;0;4;;;B;2;4;B;5;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;2;1查看分类表>
申请人	高Q-工厂GmbH	申请人地址	德国克利普豪森变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	高Q-工厂GmbH	当前权利人	高Q-工厂GmbH
发明人	弗朗兹·布鲁默
代理机构	北京天平专利商标代理有限公司	代理人	孙刚

摘要

本发明涉及一种用于从半导体处理工艺、特别是从化学机械抛光工艺中产生的含浆料的废水的再循环方法和再循环装置。所述方法由以下步骤组成：过滤步骤，其中不断将含新鲜浆料的废水引入循环容器（10）中，在此期间不断从该循环容器（10）中抽出混合废水，引导该已抽出的废水穿过超滤装置（20）并通过去除该流体而进行浓缩从而形成浓缩废水，并且将该浓缩废水引入该循环容器（10）中并使其与该循环容器（10）的内含物混合以获得该混合废水；以及在该过滤步骤之后的浓缩步骤，其中在不断从该循环容器（10）中抽出混合废水时阻止或实质上停止向该循环容器（10）添加新鲜废水，将所述抽出的混合废水引导穿过该超滤装置（20）并且通过去除该流体而对其进行浓缩，从而形成浓缩废水，并且将该浓缩废水引入该循环容器（10）中。

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