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存储器的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210089926.3
  • IPC分类号:H01L21/8247
  • 申请日期:
    2012-03-28
  • 申请人:
    华邦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称存储器的制造方法
申请号CN201210089926.3申请日期2012-03-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-10-23公开/公告号CN103367257A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8247IPC分类号H01L21/8247查看分类表>
申请人华邦电子股份有限公司申请人地址
中国台湾台中市大雅区科雅一*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华邦电子股份有限公司当前权利人华邦电子股份有限公司
发明人蒋汝平;谢荣源
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人张龙哺;冯志云
摘要
本发明公开了一种存储器的制造方法。于导体层上形成罩幕图案,包括有源区的第一线形图案与周边区的ㄩ字形图案,后者具有形成开口的第二、第三以及第四线形图案,其中第二及第三线形图案与第四线形图案的两端连接。对罩幕图案实施修整工艺。于罩幕图案侧壁上自行对准地形成绝缘图案,填满开口。移除罩幕图案,使绝缘图案具沟槽。移除部分绝缘图案,形成与沟槽连通的开口。以绝缘图案为罩幕,图案化导体层,于有源区与周边区形成第一与第二导体图案。移除绝缘图案。于第一与第二导体图案之间形成介电层。形成与第二导体图案电性连接的导体图案。本发明通过具特殊构形的罩幕图案、移除特定部分的绝缘图案以及图案化光阻层的位置,提升周边区效能。

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