一种对准系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201010286110.0
IPC分类号：G03F9/00;G03F7/20
申请日期：
2010-09-17
申请人：
上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种对准系统
申请号	CN201010286110.0	申请日期	2010-09-17
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2012-04-04	公开/公告号	CN102402140A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F9/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F9/00 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地（G03F 7/22优先；照相蒙片的制备入G03F 1/00；在复制用的照相印片设备中的入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司	申请人地址	上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微高精密机械工程有限公司,上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微高精密机械工程有限公司,上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	杜聚有
代理机构	北京连和连知识产权代理有限公司	代理人	王光辉

摘要

一种对准系统，包括光源模块，提供对准系统所需的对准光束，所述对准光束至少具有两个传播方向；光学条纹形成装置，接收上述不同方向的对准光束，形成第一光学条纹；光学模块，接收第一光学条纹，形成具有和下述对准标记相同的周期和方向的第二光学条纹，并接收所述第二光学条纹照射到下述对准标标记后形成的衍射光束；对准标记，具有一定的周期，至少向两个方向排列，其能接收第二光学条纹，并使其发生衍射；光电探测器，设置在光学模块和光学条纹形成装置之间，接收并测量上述衍射光束的强度，利用光强变化反映的位相信息确定对准位置。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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