一种通过反应性气体除H2O的原料提纯方法及装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202010197973.4
IPC分类号：C30B35/00;C30B29/12;C30B29/02;C22B9/05;C22B17/02;C22B17/06;C01D3/12;C01D3/14
申请日期：
2020-03-19
申请人：
西北工业大学

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著录项信息

专利名称	一种通过反应性气体除H2O的原料提纯方法及装置
申请号	CN202010197973.4	申请日期	2020-03-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-06-19	公开/公告号	CN111304751A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C30B35/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C30 晶体生长〔3〕 C30B 单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置〔3〕 C30B35/00 未包括在其他分类位置中的专门适用于单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的生长、制备或后处理的一般装置〔3，5〕	IPC分类号	C;3;0;B;3;5;/;0;0;;;C;3;0;B;2;9;/;1;2;;;C;3;0;B;2;9;/;0;2;;;C;2;2;B;9;/;0;5;;;C;2;2;B;1;7;/;0;2;;;C;2;2;B;1;7;/;0;6;;;C;0;1;D;3;/;1;2;;;C;0;1;D;3;/;1;4查看分类表>
申请人	西北工业大学	申请人地址	陕西省西安市友谊西路127号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西北工业大学	当前权利人	西北工业大学
发明人	殷子昂;张香港;杨帆;孙茂钧;王涛
代理机构	西北工业大学专利中心	代理人	华金

摘要

本发明公开了一种通用的原料除水提纯方法及装置，用以解决现有晶体行业高纯原料中普遍存在的水污染问题。该方法以高纯4N～6N金属或卤素化合物为待提纯原材料，置于本发明提供的以毛细管连接的坩埚结构上部分，再将上述坩埚结构转接固定至气路和炉体中，通入保护性气氛，加热炉体使待处理原料融化，接入卤素族或硅烷族化合物反应性气体至熔体处，使熔体中的H2O与反应性气体充分反应，生成惰性物质及尾气并随保护性气氛排出，待反应结束后，调节气体流速将熔体挤落至下坩埚中并封管。由于待处理原料中的H2O与反应性气体在高温熔体状态下充分反应，所述原料中的H2O含量下降1‑2个数量级，可有效减少坩埚和晶体的润湿效应，显著提高相应晶体的光电性能。

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