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测试结构

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201320879310.6
  • IPC分类号:H01L23/544
  • 申请日期:
    2013-12-27
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
著录项信息
专利名称测试结构
申请号CN201320879310.6申请日期2013-12-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/544IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;5;4;4查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请人地址
北京市大兴区北京经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人康芸
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人屈蘅;李时云
摘要
本实用新型提出了一种测试结构,包括至少一个PMOS和NMOS,PMOS和NMOS紧靠成对排列,PMOS和NMOS均设有源极、漏极、栅极和有源区。测试结构包括紧贴成对排列的NMOS和PMOS,通过对NMOS和PMOS的检测,能够检测出NMOS和PMOS两者之间的相互影响,全面的监测NMOS和PMOS的性能,有效的提高检测的准确性。

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