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利用非相干光进行光刻的装置及方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201210195343.9
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B27/10
  • 申请日期:
    2012-06-14
  • 申请人:
    黑龙江工程学院
著录项信息
专利名称利用非相干光进行光刻的装置及方法
申请号CN201210195343.9申请日期2012-06-14
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2012-09-26公开/公告号CN102692825A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;2;7;/;1;0查看分类表>
申请人黑龙江工程学院申请人地址
黑龙江省哈尔滨市道外区红旗大街999号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人黑龙江工程学院当前权利人黑龙江工程学院
发明人白云峰;包诠真;白学强;李林军;贺泽龙
代理机构哈尔滨市松花江专利商标事务所代理人张果瑞
摘要
利用非相干光进行光刻的装置及方法,属于光学领域,本发明为解决现有光刻技术采用特定偏振态的激光,而导致设备复杂、成本高的问题。本发明所述利用非相干光进行光刻的装置,它包括普通光源、准直系统、半反半透镜、掩模、光刻胶、第一全反镜、第二全反镜和第三全反镜,采用所述利用非相干光进行光刻的装置的光刻方法,该方法为:步骤一、预调准:撤掉光路中的掩模,调节半反半透镜的透射光束和光刻参考光束的干涉面出现在光刻胶中,以保证放入掩模后,掩模的图形能够出现在光刻胶中;步骤二、在光路中放入掩模,所述光刻参考光束与透过掩模的光刻光束在光刻胶中干涉,在光刻胶中形成掩模图形。

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