一种离子源坩埚控制方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010513581.0
IPC分类号：H01J37/302
申请日期：
2010-10-13
申请人：
北京中科信电子装备有限公司

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引证文献

著录项信息

专利名称	一种离子源坩埚控制方法
申请号	CN201010513581.0	申请日期	2010-10-13
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2012-05-09	公开/公告号	CN102446685A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/302 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/30 物体局部处理用的电子束管或离子束管 H01J37/302 用外部信息控制电子管的，如程序控制（H01J 37/304优先）〔3〕	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;0;2查看分类表>
申请人	北京中科信电子装备有限公司	申请人地址	北京市中关村科技园通州园光机电一体化产业基地兴光二街六号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京中科信电子装备有限公司	当前权利人	北京中科信电子装备有限公司
发明人	伍三忠;孙勇;周文龙
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明阐述了一种离子源坩埚控制方法，控制离子注入机离子源中的坩埚除气和蒸发过程，以稳定产生所需气体。本方法涉及离子注入机，属于半导体制造领域。本方法包含了两个大的步骤，即图中的除气部分(1)和闭环稳气部分(2)。除气部分(1)是通过预热和不断加热坩埚，将坩埚中的杂质气体和所要加热的固体中含有的水分除掉。闭环稳气部分(2)是将坩埚温度的控制与离子源真空值进行闭环控制，并以PID控制算法实现对于二者间的关联控制。离子源真空值可通过人机交互界面设定，由本方法自动调节坩埚温度，使得离子源真空值保持稳定，即获得目标气体浓度。

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