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光刻用膜形成用组合物、光刻用膜、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201880074961.3
IPC分类号：G03F7/11;C08G10/02;C08G10/04;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/26
申请日期：
2018-11-16
申请人：
三菱瓦斯化学株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻用膜形成用组合物、光刻用膜、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法
申请号	CN201880074961.3	申请日期	2018-11-16
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2020-07-03	公开/公告号	CN111373326A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/11 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/09 以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层（印刷版的基片层一般入B41N）〔5〕 G03F7/11 具有覆盖层或中间层的，例如，（使感光乳剂固着于片基的）胶层〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;1;1;;;C;0;8;G;1;0;/;0;2;;;C;0;8;G;1;0;/;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;3;1;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;2;6查看分类表>
申请人	三菱瓦斯化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱瓦斯化学株式会社	当前权利人	三菱瓦斯化学株式会社
发明人	牧野岛高史;越后雅敏;三树泰
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇;李茂家

摘要

本发明的光刻用膜形成用组合物包含选自由如下树脂组成的组中的至少1种：具有取代或无取代的苯环的芳香族烃与甲醛的缩合反应物即芳香族烃甲醛树脂、和将前述芳香族烃甲醛树脂改性而成的改性芳香族烃甲醛树脂。

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