加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种高孔隙率高强度低导热率多孔SiC陶瓷及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110382469.6
  • IPC分类号:C04B35/80;C04B35/565;C04B38/06
  • 申请日期:
    2021-04-09
  • 申请人:
    西安理工大学
著录项信息
专利名称一种高孔隙率高强度低导热率多孔SiC陶瓷及其制备方法
申请号CN202110382469.6申请日期2021-04-09
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-30公开/公告号CN113185312A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/80IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;8;0;;;C;0;4;B;3;5;/;5;6;5;;;C;0;4;B;3;8;/;0;6查看分类表>
申请人西安理工大学申请人地址
陕西省西安市金花南路5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安理工大学当前权利人西安理工大学
发明人李福平;赵琳娜;赵康;党薇;汤玉斐;孟庆男;焦华
代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司代理人杨洲
摘要
本发明公开了一种高孔隙率高强度低导热率多孔SiC陶瓷及其制备方法,该制备方法包括球磨碳纤维,预制碳纤维,配制先驱体浆料,然后经过加热搅拌、冷冻、真空冷冻干燥,热氧化固化,最后经过热解、脱碳处理得到高孔隙率高强度低导热率多孔SiC陶瓷。该制备方法通过引入中空多孔SiC纤维做为孔壁单元,在保证多孔功能性和不降低多孔SiC孔隙率的前提下,提高多孔材料的抗压强度,解决了目前多孔SiC陶瓷在高孔隙率下压缩性能较低的缺点,并在一定程度上降低其热导率,制备得到的多孔SiC陶瓷在航空航天隔热材料领域具有广泛的应用前景。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供