一种碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜

发明专利有效专利

申请号：
CN201810227395.7
IPC分类号：C23C4/04;C23C4/134;G02B5/08
申请日期：
2018-03-19
申请人：
广东省新材料研究所

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专利名称	一种碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜
申请号	CN201810227395.7	申请日期	2018-03-19
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2018-08-03	公开/公告号	CN108359925A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C4/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C4/00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04〔4，2016.01〕 C23C4/04 以镀覆材料为特征的〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;4;/;0;4;;;C;2;3;C;4;/;1;3;4;;;G;0;2;B;5;/;0;8查看分类表>
申请人	广东省新材料研究所	申请人地址	广东省广州市天河区长兴路363号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	广东省科学院新材料研究所	当前权利人	广东省科学院新材料研究所
发明人	张小锋;周克崧;刘敏;邓畅光;邓春明;宋进兵;毛杰;张吉阜;杨焜;徐丽萍;陈志坤;曾威;陈龙飞
代理机构	北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	吴啸寰

摘要

本发明涉及一种碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜，属于材料领域。制备方法包括：采用等离子喷涂‑物理气相沉积方法将含有Si元素的涂层沉积于基体的表面，基体的原料包括碳化硅基复合材料，碳化硅基复合材料包括SiC/SiC复合材料。该制备与传统制备技术相比，可减少涂层中的热应力和裂纹数量，抛光后可满足目前太空反射镜光学要求。制备而得的碳化硅基致密硅涂层致密均匀、硬度适中、抛光性好，热变形系统小、抗热震性好，具有较佳的热性能及机械性能且耐环境能力强。

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