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用于形成浅沟渠隔离区的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710123112.6
IPC分类号：H01L21/762;H01L21/31
申请日期：
2007-06-27
申请人：
旺宏电子股份有限公司

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于形成浅沟渠隔离区的方法
申请号	CN200710123112.6	申请日期	2007-06-27
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-01-02	公开/公告号	CN101097884
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/762 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/70 由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K 3/00，H05K 13/00）〔2〕 H01L21/71 限定在组H01L 21/70中的器件的特殊部件的制造（H01L 21/28，H01L 21/44，H01L 21/48优先）〔6〕 H01L21/76 组件间隔离区的制作〔2〕 H01L21/762 介电区〔6〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;7;6;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1查看分类表>
申请人	旺宏电子股份有限公司	申请人地址	台湾省新竹科学工业园区力行路16号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	旺宏电子股份有限公司	当前权利人	旺宏电子股份有限公司
发明人	吴家伟;廖振伟;谢荣裕;杨令武;苏金达;黄启东
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	周长兴

摘要

一种用于形成浅沟渠隔离区的方法。此方法包括在所提供的基底上方依次形成衬垫氧化物层和氮化硅层的步骤。接下来，部分蚀刻衬垫氧化物层、氮化硅层以及基底以形成沟渠。接着，在沟渠中形成氧化物衬层和氮化物衬层。随后，执行两阶段高密度电浆化学气相沉积处理以形成浅沟渠隔离区。

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