涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构

实用新型专利无效专利

申请号：
CN200820218407.1
IPC分类号：G03F7/16;G03F7/30;G03F7/00;H01L21/027
申请日期：
2008-10-10
申请人：
沈阳芯源微电子设备有限公司

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著录项信息

专利名称	涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构
申请号	CN200820218407.1	申请日期	2008-10-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/16 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/16 涂层处理及其设备（用于基底材料涂层一般入B05；用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C 1/74）	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;1;6;;;G;0;3;F;7;/;3;0;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	沈阳芯源微电子设备有限公司	申请人地址	辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳芯源微电子设备有限公司	当前权利人	沈阳芯源微电子设备有限公司
发明人	王阳
代理机构	沈阳科苑专利商标代理有限公司	代理人	张志伟

摘要

本实用新型涉及涂胶显影单元工作臂的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的各工作臂的可分控作业及可交叉作业结构，解决涂胶、显影单元中实现工作臂的上下动作结构复杂，工作效率低等问题。涂胶单元或显影单元的基座一侧安装支承板，两个电缸I、电缸II上下平行安装在支承板外侧，涂胶单元或显影单元的两个工作臂分别固定在基座支承板外侧的上下两个电缸I、电缸II上。由于两臂的安装结构不存在运动干涉，利用电缸的作用可以进行独立、交叉的平行作业。这一独特功能的实用性在显影单元上体现的尤为明显，可以实现反复的显影、定影工艺过程。采用本实用新型可以缩短工艺单元的作业时间，为提高整体设备的产能打基础。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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