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一种阵列基板及其制备方法、掩膜板和显示面板

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010118417.3
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G03F1/32
  • 申请日期:
    2020-02-26
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称一种阵列基板及其制备方法、掩膜板和显示面板
申请号CN202010118417.3申请日期2020-02-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-06-23公开/公告号CN111326528A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;3;F;1;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,福州京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,福州京东方光电科技有限公司
发明人王金良;林忱;陈吉湘;王文超
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人姜春咸;冯建基
摘要
本公开的阵列基板,包括:基板和依次叠置在基板上的第一导电层和第二导电层,第一导电层在基板上的正投影和第二导电层在基板上的正投影具有交叠区域,交叠区域内的第一导电层和第二导电层构成第一导电图案,第一导电图案具有沿着第一方向延伸的图形,位于交叠区域外的第一导电层包括第二导电图案和第三导电图案,第二导电图案和第三导电图案间具有间隔,且第二导电图案和第三导电图案分别与第一导电图案相对接,第二导电图案和第三导电图案位于第一导电图案的同一侧并沿着第二方向延伸,第二导电图案和第三导电图案的靠近第一导电图案的第一区之间的第一间距大于二者远离第一导电图案的第二区之间的第二间距。

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