一种用于氮化铝晶体的湿法腐蚀装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201621420014.X
IPC分类号：C30B33/10;C30B29/40
申请日期：
2016-12-22
申请人：
苏州奥趋光电技术有限公司

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专利名称	一种用于氮化铝晶体的湿法腐蚀装置
申请号	CN201621420014.X	申请日期	2016-12-22
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C30B33/10 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C30 晶体生长〔3〕 C30B 单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置〔3〕 C30B33/00 单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的后处理（C30B 31/00优先）〔3，5〕 C30B33/08 侵蚀〔5〕 C30B33/10 在溶液或熔体内〔5〕	IPC分类号	C;3;0;B;3;3;/;1;0;;;C;3;0;B;2;9;/;4;0查看分类表>
申请人	苏州奥趋光电技术有限公司	申请人地址	江苏省苏州市张家港市国泰北路1号留学生创业园D幢103（奥趋光电）变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	苏州奥趋光电技术有限公司	当前权利人	苏州奥趋光电技术有限公司
发明人	吴亮;刘理想;曹凯;汪佳;龚加玮;王琦琨;王智昊
代理机构	苏州创元专利商标事务所有限公司	代理人	孙仿卫

摘要

本实用新型公开了一种用于氮化铝晶体的湿法腐蚀装置，通过熔融NaOH‑KOH低共融混合物对氮化铝晶体进行湿法腐蚀，装置包括用于盛放熔融NaOH‑KOH低共融混合物的坩埚、设于坩埚中的用于放置氮化铝晶体的隔网、包覆在坩埚侧向周部的隔热套、设于坩埚底部的加热机构、用于实时测量坩埚中熔融NaOH‑KOH低共融混合物温度的测温机构。本实用新型一种用于氮化铝晶体的湿法腐蚀装置，通过使用金属镍材料制成的坩埚和隔网，耐腐蚀性高，基本杜绝腐蚀反应以外的其他化学反应，保证了腐蚀的质量，安全性高；通过设置测温机构，热电偶浸入熔融NaOH‑KOH低共融混合物内部，所测温度为实时温度，对腐蚀的温度参数控制准确。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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