真空成膜装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200580020739.8
IPC分类号：--
申请日期：
2005-09-05
申请人：
新明和工业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	真空成膜装置
申请号	CN200580020739.8	申请日期	2005-09-05
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2007-05-30	公开/公告号	CN1973059
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	新明和工业株式会社	申请人地址	日本国兵库县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	新明和工业株式会社	当前权利人	新明和工业株式会社
发明人	泷川志郎;加藤圭司;米山信夫
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	衷诚宣

摘要

本发明提供将圆筒构件的一部分作为靶使用，而且有意利用该圆筒构件附加等离子体聚合功能的的真空成膜装置。真空成膜装置(100)具备具有内部空间的导电性真空槽(13)、在内部空间(10)并排配置多个弯曲成扇形的弯曲构件(31、32)，以此形成大致圆筒形从而形成的框体(15)、配置于被框体(15)包围的内部，沿着框体(15)的圆周方向形成磁场的磁场形成装置(33)，弯曲构件(15、16)中的至少一个是使用于溅射的靶，而且是除了靶的框体(15)的区域外被使用于等离子体聚合的装置。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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