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功率半导体器件及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN202010489030.9
  • IPC分类号:H01L29/06;H01L29/423;H01L29/78;H01L21/336
  • 申请日期:
    2020-06-02
  • 申请人:
    杭州士兰微电子股份有限公司;杭州士兰集成电路有限公司
著录项信息
专利名称功率半导体器件及其制造方法
申请号CN202010489030.9申请日期2020-06-02
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2020-10-09公开/公告号CN111755500A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/06IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人杭州士兰微电子股份有限公司;杭州士兰集成电路有限公司申请人地址
浙江省杭州市黄姑山路4号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州士兰微电子股份有限公司,杭州士兰集成电路有限公司当前权利人杭州士兰微电子股份有限公司,杭州士兰集成电路有限公司
发明人张邵华;郭广兴;杨彦涛
代理机构北京成创同维知识产权代理有限公司代理人岳丹丹
摘要
本发明公开了一种功率半导体器件及其制造方法,功率半导体器件的部分屏蔽导体与源极电极连接,屏蔽导体在与源极电极电连接的位置处,屏蔽导体从沟槽底部延伸至沟槽内两侧的栅极导体之间的位置,栅极导体和屏蔽导体之间由隔离层隔开,屏蔽导体与源极电极连接;部分屏蔽导体不与源极电极连接,屏蔽导体在不与源极电极电连接的位置处,屏蔽导体从沟槽底部延伸至沟槽上部两侧的栅极导体下方区域,减小了屏蔽导体的寄生电阻,使得寄生电阻下降几十倍。

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