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瓷介电容保护方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110603149.9
  • IPC分类号:H05K3/34
  • 申请日期:
    2021-05-31
  • 申请人:
    中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
著录项信息
专利名称瓷介电容保护方法
申请号CN202110603149.9申请日期2021-05-31
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-03公开/公告号CN113347806A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05K3/34IPC分类号H;0;5;K;3;/;3;4查看分类表>
申请人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请人地址
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所当前权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
发明人宋克非;刘世界;陈波;韩振伟
代理机构长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)代理人高一明;郭婷
摘要
本发明提供一种瓷介电容保护方法,包括以下步骤:S1、将瓷介电容的两根引线弯曲成倒圆弧直角型;S2、将两根引线与电路板进行焊接;S3、分层对瓷介电容与电路板之间进行注胶加固;S4、将两根引线与电路板的焊接处分别进行点胶灌封。本发明可以提高瓷介电容,特别是引线式高压瓷介电容的抗外来冲击和振动的力学特性,减少随运载火箭发射、入轨时经历复杂力学环境后的损坏风险,提高瓷介电容的可靠性。

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