基板加工平台及其支撑装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201711367931.5
IPC分类号：G02F1/13;G03F7/20
申请日期：
2017-12-18
申请人：
武汉华星光电技术有限公司

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著录项信息

专利名称	基板加工平台及其支撑装置
申请号	CN201711367931.5	申请日期	2017-12-18
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-04-03	公开/公告号	CN107870461A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/13 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	武汉华星光电技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电技术有限公司
发明人	魏德萌
代理机构	深圳市铭粤知识产权代理有限公司	代理人	孙伟峰

摘要

本发明提供一种基板加工平台及其支撑装置，所述支撑装置包括本体及设于本体上的多个顶针组，多个顶针组中的每一个顶针组均包括环绕所述本体的几何中心设置的多个顶针，每一个顶针组中的多个顶针的高度均相等，多个顶针组依次靠近本体的几何中心设置且多个顶针组中每一个顶针组中的多个顶针的高度依次减小。本发明提出的支撑装置中的多个顶针组依次靠近所述本体的几何中心设置且所述多个顶针组中每一个顶针组中的多个顶针的高度依次减小，由于多个顶针组的顶针高度依次减小，在将基板顶起时空气依次朝着基板的中心移动，从而可以将基板与本体之间的真空彻底释放，避免因局部真空释放不彻底而导致基板破裂的现象，提升了成品率、降低损耗。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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