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高-X两嵌段共聚物的制备、纯化和使用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201380008727.8
  • IPC分类号:C08F293/00;C08L53/00;C08F6/12;C08J3/09;C08F6/14;C08L25/00;C08L33/04
  • 申请日期:
    2013-02-11
  • 申请人:
    纳幕尔杜邦公司
著录项信息
专利名称高-X两嵌段共聚物的制备、纯化和使用
申请号CN201380008727.8申请日期2013-02-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-10-15公开/公告号CN104105729A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08F293/00IPC分类号C;0;8;F;2;9;3;/;0;0;;;C;0;8;L;5;3;/;0;0;;;C;0;8;F;6;/;1;2;;;C;0;8;J;3;/;0;9;;;C;0;8;F;6;/;1;4;;;C;0;8;L;2;5;/;0;0;;;C;0;8;L;3;3;/;0;4查看分类表>
申请人纳幕尔杜邦公司申请人地址
美国特拉华州威尔明顿 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人纳幕尔杜邦公司当前权利人纳幕尔杜邦公司
发明人W.B.法恩哈姆;M.T.舍希汉;H.特兰六世
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人邹雪梅;李炳爱
摘要
本发明涉及高‑X(“chi”)两嵌段共聚物的制备和纯化。此类共聚物包含两个具有明显不同的相互作用参数的聚合物片段(“嵌段”),并可用于定向自组装应用中。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供