一种ArF光刻胶中的酸敏单体的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110460097.4
IPC分类号：C07D493/18
申请日期：
2021-04-27
申请人：
宁波南大光电材料有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种ArF光刻胶中的酸敏单体的制备方法
申请号	CN202110460097.4	申请日期	2021-04-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-08-06	公开/公告号	CN113214285A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07D493/18 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07D 杂环化合物（高分子化合物入C08）〔2〕 C07D493/00 杂环化合物，在稠环系中含有氧原子作为仅有的杂环原子〔2〕 C07D493/12 在稠环系中含有3个杂环〔2〕 C07D493/18 桥系〔2〕	IPC分类号	C;0;7;D;4;9;3;/;1;8查看分类表>
申请人	宁波南大光电材料有限公司	申请人地址	浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宁波南大光电材料有限公司	当前权利人	宁波南大光电材料有限公司
发明人	周浩杰;马潇;夏正建;陈情丽;毛智彪;许从应
代理机构	深圳盛德大业知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	左光明

摘要

本发明适用于光刻胶材料制备技术领域，提供了一种ArF光刻胶中的酸敏单体的制备方法，所述酸敏单体具体为5,5‑二甲基‑4,8‑二氧杂三环[4.2.1.03,7]壬基‑2‑甲基丙烯酸酯。本发明采用5,5‑二甲基‑4,8‑二氧杂三环[4.2.1.03,7]壬基‑2‑醇、甲基丙烯类反应物和碱性催化剂进行反应，使得本申请反应的产率大大得到提高，产率可高达90％以上。同时，本申请以沉淀和重结晶对反应液进行后处理，后处理方法简单快捷、易操作，而且污染较小，得到产物的纯度较高，其纯度可达99.99％。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供