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一种PETEOS沉积设备清洗方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910243500.7
  • IPC分类号:H01L21/00
  • 申请日期:
    2009-12-24
  • 申请人:
    北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
著录项信息
专利名称一种PETEOS沉积设备清洗方法
申请号CN200910243500.7申请日期2009-12-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-06-29公开/公告号CN102110583A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/00IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司申请人地址
北京市海淀区成府路298号方正大厦9层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北大方正集团有限公司,深圳方正微电子有限公司当前权利人北大方正集团有限公司,深圳方正微电子有限公司
发明人崔晓娟;周华强;徐锋;彭亮;熊炳辉
代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司代理人郭润湘
摘要
本发明公开了一种PETEOS沉积设备清洗方法,包括:向PETEOS沉积设备的各反应腔中通入C2F6和O2作为清洗气体,施加射频交流电,对各反应腔依次进行近距离清洗和远距离清洗,通入的C2F6气体流量为380~420scc;O2的气体流量为475~525scc;清洗完成后抽空各反应腔内的气体。本发明提供的PETEOS沉积设备清洗方法在保证PETEOS设备的清洗质量的前提下,减少了工艺气体耗费量,降低了成本,还使得反应腔内备件耗损速度减缓,提高了设备正常的生产时间。

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