等离子体沉积保护膜的方法和装置

发明专利有效专利

申请号：
CN86106364
IPC分类号：--
申请日期：
1986-09-12
申请人：
青岛化工学院

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专利名称	等离子体沉积保护膜的方法和装置
申请号	CN86106364	申请日期	1986-09-12
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	1988-03-23	公开/公告号	CN86106364
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	青岛化工学院	申请人地址	山东省青岛市郑州路53号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	青岛化工学院	当前权利人	青岛化工学院
发明人	李世直
代理机构	青岛市专利服务中心	代理人	吴澄;崔日新

摘要

等离子体沉积保护膜的方法及装置。属于金属表面处理领域。本方法用等离子体活化作用，把化学气相沉积法的良好绕镀性及物理气相沉积法的低温成膜结合起来，可在刀具，模具及机械零部件上镀TiN，TiC，TiN/TiC及Ti(CN)等超硬膜及其复合膜，以提高其使用寿命。等离子体沉积装置具有气流分布均匀，易于清洗和防止污染的功能。本方法的工艺简单，设备费用低，原料价格低，在经济上有明显优势。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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