光学系统以及光学显微镜

发明专利无效专利

申请号：
CN200610079133.8
IPC分类号：G02B21/00
申请日期：
2006-05-10
申请人：
横河电机株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光学系统以及光学显微镜
申请号	CN200610079133.8	申请日期	2006-05-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2006-11-15	公开/公告号	CN1862309
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B21/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B21/00 显微镜（目镜入G02B 25/00；偏振系统入G02B 27/28；测量显微镜入G01B 9/04；显微镜用切片机入G01N 1/06；扫描探针技术或设备入G01Q）〔1，7〕	IPC分类号	G;0;2;B;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	横河电机株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	横河电机株式会社	当前权利人	横河电机株式会社
发明人	田名纲健雄;杉山由美子
代理机构	北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人	顾红霞;张天舒

摘要

本发明公开一种将入射光的强度分布校正为平坦的强度分布的光学系统，该光学系统包括：第一透镜组，其包括至少一个透镜，并且具有正折射率；第二透镜组，其包括至少一个透镜，并且具有负折射率，在入射光方向上第二透镜组位于第一透镜组之后；以及第三透镜组，其包括至少一个透镜，并且具有正折射率，在入射光方向上第三透镜组位于第二透镜组之后。在该光学系统中，使得入射光准直，并且利用第一透镜组的球面像差、第二透镜组的球面像差和第三透镜组的球面像差将入射光的强度分布校正为平坦的强度分布。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
1	CN1481289A	2004-03-10	2002-09-26	光照射装置与光照射方法失效专利	松下电器产业株式会社

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
1	CN105277931A	2014-07-21	2014-07-21	一种激光雷达用多光束准直发射与接收系统及其镜头有效专利	北京自动化控制设备研究所

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