加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

调节光刻胶层厚度值的方法和系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610407448.4
  • IPC分类号:H01L21/56;H01L21/66
  • 申请日期:
    2016-06-12
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
著录项信息
专利名称调节光刻胶层厚度值的方法和系统
申请号CN201610407448.4申请日期2016-06-12
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-12-19公开/公告号CN107492503A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/56IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;5;6;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人刘洋
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人高静;吴敏
摘要
一种调节光刻胶层厚度值的方法和系统,所述方法包括:获得多种光刻胶层的不同厚度值以及与厚度值对应的光刻胶涂布机台转速值;将多种光刻胶层的各厚度值分为多个厚度区间,获得与各厚度区间对应的厚度值与光刻胶涂布机台转速值的关系式,并根据关系式获得关系式系数的计算公式;形成与光刻胶类型和厚度区间相对应的系数表;涂布光刻胶层时,根据光刻胶层的类型和目标厚度值从系数表中获得对应的关系式系数,并计算出与目标厚度值对应的调节转速值。本发明通过形成系数表,在涂布光刻胶层时,可以根据光刻胶层种类和目标厚度值,选取相应厚度区间对应的关系式系数和关系式,计算出与目标厚度值对应的调节转速值,调节光刻胶层厚度值的精准度较高。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供