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一种沟槽MOSFET的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910164439.7
  • IPC分类号:H01L21/8234;H01L21/336
  • 申请日期:
    2009-08-03
  • 申请人:
    力士科技股份有限公司
著录项信息
专利名称一种沟槽MOSFET的制造方法
申请号CN200910164439.7申请日期2009-08-03
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-03-23公开/公告号CN101989577A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8234
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人力士科技股份有限公司申请人地址
中国台湾台北县板桥市信义路177-3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人力士科技股份有限公司当前权利人力士科技股份有限公司
发明人谢福渊
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王新华
摘要
本发明公开了一种沟槽MOSFET结构与其制造方法,与现有技术中沟槽MOSFET源区的形成方法不同,该结构的源区是由在源体接触沟槽的开口处进行源区多数载流子的离子注入和扩散形成,使得源区多数载流子的浓度分布沿外延层表面方向从源体接触沟槽向沟道区呈现高斯分布,且源区的结深从源体接触沟槽向沟道区逐渐变浅。采用本发明的该结构的沟槽MOSFET器件具有较现有技术更好的雪崩击穿特性,并且相应地在制造过程中,本发明公开了一种只需要使用三次掩模板的制造方法,大大减少了生产成本。

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