可选择射束电流和能量分布的粒子源以及粒子- 光学装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200510051944.2
IPC分类号：--
申请日期：
2005-02-16
申请人：
FEI公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	可选择射束电流和能量分布的粒子源以及粒子- 光学装置
申请号	CN200510051944.2	申请日期	2005-02-16
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2005-08-24	公开/公告号	CN1658331
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	FEI公司	申请人地址	美国俄勒冈州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	FEI公司	当前权利人	FEI公司
发明人	J·奇梅里克;A·亨斯特拉
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	杨凯;张志醒

摘要

本发明揭示了一种能够进行能量选择的粒子源。能量选择是通过使带电粒子束(13)偏心通过透镜(6)。由于这种方式，在经透镜(6)所形成的像15内出现能量扩散。通过将像(15)投射到光阑(7)上，可仅允许能谱内有限部分的粒子通过。因此，通过的射束(16)具有减小的能够分布。通过增设偏转单元(10)，该粒子束(16)能够向光轴偏转。还可选择向光轴偏转通过透镜(6)中央的(例如具有较大射束电流的)射束(12)。

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