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生物体侵袭反应降低方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200680006424.2
  • IPC分类号:B01J19/08
  • 申请日期:
    2006-01-18
  • 申请人:
    大金工业株式会社
著录项信息
专利名称生物体侵袭反应降低方法
申请号CN200680006424.2申请日期2006-01-18
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-02-20公开/公告号CN101128258
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01J19/08IPC分类号B;0;1;J;1;9;/;0;8查看分类表>
申请人大金工业株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人大金工业株式会社当前权利人大金工业株式会社
发明人新井润一郎;小泽智;冈本誉士夫;香川谦吉;仲田悟基
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳
摘要
本发明涉及的物质改性装置的放电装置(20)具有线状或针状的正极(放电电极(21)的放电端(21b))和面状的负极(对置电极(22))。在该正极(放电端(21b)和负极(对置电极(22))之间放电,通过与活性种接触,使具有纳米结构的物质的纳米结构消失,该活性种由在正极(放电端(21b))的某个位置和负极(对置电极(22))上的多个位置之间的放电大致同时稳定地引起的流光放电产生并从正极和负极之间扩散。通过使纳米结构消失,降低由具有纳米结构的物质的纳米结构引起的生物体侵袭反应。

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