化学机械抛光智能环

发明专利有效专利

申请号：
CN201780051335.8
IPC分类号：B24B37/32;B24B37/005;B24B49/00;B24B57/02;H01L21/306
申请日期：
2017-09-08
申请人：
应用材料公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	化学机械抛光智能环
申请号	CN201780051335.8	申请日期	2017-09-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-04-26	公开/公告号	CN109689295A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/32 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/27 工件载体〔2012.01〕 B24B37/30 用于平面的单侧研磨〔2012.01〕 B24B37/32 保持环〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;3;2;;;B;2;4;B;3;7;/;0;0;5;;;B;2;4;B;4;9;/;0;0;;;B;2;4;B;5;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6查看分类表>
申请人	应用材料公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料公司	当前权利人	应用材料公司
发明人	黄祖滨;斯蒂芬·A·威尔斯;拉梅什·戈帕兰;甘加达尔·希拉瓦特;西蒙·雅维伯格
代理机构	北京律诚同业知识产权代理有限公司	代理人	徐金国;赵静

摘要

本公开内容的实施方式总体涉及基板的化学机械抛光(CMP)。在一个实施方式中，本文公开了用于CMP设备的承载头。承载头包括主体、支撑环和传感器组件。支撑环耦接至主体。传感器组件至少部分地定位于主体中。传感器组件包括发射器、天线和振动传感器。发射器具有第一端和第二端。天线耦接至发射器的第一端。振动传感器耦接至第二端。振动传感器经配置以检测化学机械过程期间相对于承载头的径向轴、方位轴和角轴的振动。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供