- C化学;冶金
- C2冶金
- C30晶体生长〔3〕
- C30B单晶生长(用超高压的,例如用于金刚石形成的入B01J 3/06);共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼(金属或合金的区熔精炼入C22B);具有一定结构的均匀多晶材料的制备(金属铸造,按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D;塑料的加工入B29;改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F);单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理(用于半导体器件或元件生产的入H01L);其所用的装置〔3〕
- C30B9/00使用熔融态溶剂之熔体的单晶生长(用正常凝固法或温度梯度凝固法的入C30B 11/00;用区域熔融法的入C30B 13/00;晶体提拉法入C30B 15/00;在浸入的晶种上的入C30B 17/00;液相外延生长法入C30B 19/00;在保护流体下的入C30B 27/00)〔3〕
- C30B9/04熔融溶液冷却法〔3〕
- C30B9/06使用晶体组成之一种组分作溶剂的〔3〕