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一种阵列式共轭成像二极管激光光谱合成光学装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201420550990.1
  • IPC分类号:H01S5/068
  • 申请日期:
    2014-09-24
  • 申请人:
    中国工程物理研究院应用电子学研究所
著录项信息
专利名称一种阵列式共轭成像二极管激光光谱合成光学装置
申请号CN201420550990.1申请日期2014-09-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01S5/068IPC分类号H;0;1;S;5;/;0;6;8查看分类表>
申请人中国工程物理研究院应用电子学研究所申请人地址
四川省绵阳市919信箱1013分箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国工程物理研究院应用电子学研究所当前权利人中国工程物理研究院应用电子学研究所
发明人张凯;李建民;卢飞;田飞;雒仲祥;叶一东;尹新启;颜宏;唐淳
代理机构成都九鼎天元知识产权代理有限公司代理人卿诚;吴彦峰
摘要
本实用新型提供了一种阵列式共轭成像二极管激光光谱合成光学装置的技术方案,该方案包括有能够实现二极管激光的光谱合成的二极管激光叠阵、慢轴转换柱透镜、快轴柱透镜阵列、反射式平面光栅、外腔镜,二极管激光叠阵包括有多个二极管激光线阵;二极管激光线阵的出光面的光路上设置有快轴准直微透镜;二极管激光线阵发出的激光束依次穿过快轴准直微透镜、慢轴转换柱透镜、快轴柱透镜阵列和反射式平面光栅后射入外腔镜,能够消除二极管激光线阵“smile”效应及二极管激光叠阵快轴指向性误差对光谱合成效率及光束质量的影响。

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