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透明光掩模及其制造方法及用其形成导电网格图案的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201580008070.4
IPC分类号：G03F7/26;G03F7/20;H01J1/30
申请日期：
2015-02-13
申请人：
株式会社LG化学

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	透明光掩模及其制造方法及用其形成导电网格图案的方法
申请号	CN201580008070.4	申请日期	2015-02-13
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-02-22	公开/公告号	CN106462087A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/26 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;6;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;J;1;/;3;0查看分类表>
申请人	株式会社LG化学	申请人地址	韩国首尔变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社LG化学	当前权利人	株式会社LG化学
发明人	朴正岵;郑镇美;郑有珍;辛富建
代理机构	北京鸿元知识产权代理有限公司	代理人	李静;黄丽娟

摘要

本发明涉及一种制造母模的方法、由该方法制造的母模、制造透明光掩模的方法、由该方法制造的透明光掩模以及使用该透明光掩模制造导电网格图案的方法。

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