次分辨率辅助图形校正方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910045706.9
IPC分类号：G03F1/36
申请日期：
2009-01-23
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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著录项信息

专利名称	次分辨率辅助图形校正方法
申请号	CN200910045706.9	申请日期	2009-01-23
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2010-07-28	公开/公告号	CN101788759A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/36 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/36 具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;6查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
发明人	李承赫
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	李丽

摘要

一种次分辨率辅助图形校正方法，包括：设置辅助图形，确定辅助图形参数的初始值；移动主图形的边缘，并计算主图形的边缘放置误差，获得对应于所述辅助图形参数的所述主图形边缘放置误差的最小值；根据主图形边缘放置误差的所述最小值，计算主图形边缘的图案参数，获得与所述主图形边缘图案参数最大值所对应的辅助图形参数；重复主图形边缘放置误差和主图形图案参数的计算步骤，对辅助图形参数进行更新，直至确定辅助图形，使对应的主图形的边缘放置误差为零以及具有最大的图案参数。本发明有机地结合了辅助图形的产生、优化以及主图形的光学近邻校正，简化了掩模图形的校正过程。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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