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制备具有期望的聚集粒径的聚集的金属氧化物颗粒的分散体的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200580022654.3
  • IPC分类号:C01B33/14;C01B13/14;C01F7/02;C09C3/04;C01F17/00
  • 申请日期:
    2005-05-04
  • 申请人:
    卡伯特公司
著录项信息
专利名称制备具有期望的聚集粒径的聚集的金属氧化物颗粒的分散体的方法
申请号CN200580022654.3申请日期2005-05-04
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-06-13公开/公告号CN1980860
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B33/14IPC分类号C;0;1;B;3;3;/;1;4;;;C;0;1;B;1;3;/;1;4;;;C;0;1;F;7;/;0;2;;;C;0;9;C;3;/;0;4;;;C;0;1;F;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人卡伯特公司申请人地址
美国马萨诸塞州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人卡伯特公司当前权利人卡伯特公司
发明人乔安妮·刘;耶科夫·E·库特索夫斯基
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人宋莉;贾静环
摘要
一种制备具有预先选定的平均聚集粒径的聚集的金属氧化物颗粒的分散体的方法,包括预先选择期望的金属氧化物颗粒的平均聚集粒径的下降百分率,提供关于聚集的金属氧化物颗粒的分散体的分散标准,其中,所述分散标准涉及下列因素的相互联系:(i)分散体的固体浓度和(ii)在高剪切混和器中研磨所述分散体时所产生的聚集的金属氧化物颗粒的聚集粒径的下降百分率,并在由该标准确定的固体浓度的10%以内的固体浓度下,在高剪切研磨设备中制备和研磨所述聚集的金属氧化物颗粒的分散体,以提供具有期望的平均聚集粒径的聚集的金属氧化物颗粒的分散体。还提供降低聚集的金属氧化物颗粒的平均聚集粒径的方法和由该方法制备的分散体。

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