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暴露高能(111)晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201410013097.X
  • IPC分类号:C30B29/46;C30B29/62;C30B7/14;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2014-01-10
  • 申请人:
    陕西师范大学
著录项信息
专利名称暴露高能(111)晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线的制备方法
申请号CN201410013097.X申请日期2014-01-10
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2014-05-07公开/公告号CN103774233A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B29/46IPC分类号C;3;0;B;2;9;/;4;6;;;C;3;0;B;2;9;/;6;2;;;C;3;0;B;7;/;1;4;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人陕西师范大学申请人地址
陕西省西安市长安南路199号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人陕西师范大学当前权利人陕西师范大学
发明人杨合情;刘彬;赵桦
代理机构西安永生专利代理有限责任公司代理人高雪霞
摘要
本发明公开了一种暴露高能(111)晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线的制备方法,采用简单的溶剂热法,制备出暴露高能(111)晶面且具有大的纵横比的立方相Cu2Se单晶纳米线,Cu2Se纳米线沿[-202]方向生长,纳米线的直径为142nm~1.1μm、长度为5.4~102μm。本发明操作简单,成本低,重复性和一致性好,所制备的暴露高能(111)晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线可望在光催化、太阳能电池、超离子导体、锂离子电池和超级电容器等应用中体现增强的光电性能。

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