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电子束装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980029412.9
  • IPC分类号:H01J37/20
  • 申请日期:
    2019-04-23
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称电子束装置
申请号CN201980029412.9申请日期2019-04-23
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-12-08公开/公告号CN112055885A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/20IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人P·P·亨佩尼乌斯;S·A·J·霍尔;M·F·J·克里梅斯;H·M·J·范德格罗伊斯;N·J·M·博世;M·K·M·巴格根
代理机构北京市金杜律师事务所代理人暂无
摘要
公开了一种电子束装置,该工具包括被配置为将电子束投射到对象上的电子光学系统(500),用于保持该对象的载物台,和被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台(520)的定位器件(510)。该定位器件包括被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台的短冲程平台(512)和被配置为相对于该电子光学系统移动该短冲程平台的长冲程平台(511)。该电子束装置进一步包括磁屏蔽(540),用于屏蔽该电子光学系统免于被该定位器件生成的磁扰动所影响。该磁屏蔽可以被布置在该定位器件和该电子光学系统之间。

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