金刚石膜-铜复合散热片的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201810580016.2
IPC分类号：C23C16/27;C23C16/01;B23K1/00;B23K103/18
申请日期：
2018-06-07
申请人：
太原理工大学

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著录项信息

专利名称	金刚石膜-铜复合散热片的制备方法
申请号	CN201810580016.2	申请日期	2018-06-07
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-10-30	公开/公告号	CN108715997A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/27 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/26 仅沉积碳〔4〕 C23C16/27 仅沉积金刚石〔7〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;2;7;;;C;2;3;C;1;6;/;0;1;;;B;2;3;K;1;/;0;0;;;B;2;3;K;1;0;3;/;1;8查看分类表>
申请人	太原理工大学	申请人地址	山西省太原市迎泽西大街79号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	太原理工大学	当前权利人	太原理工大学
发明人	于盛旺;郑可;高洁;黑鸿君;周兵;吴艳霞;马婧;申艳艳;贺志勇
代理机构	太原倍智知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	骆洋

摘要

本发明为一种金刚石膜‑铜复合散热片的制备方法，解决了金刚石无法以高结合强度的膜层直接在铜表面沉积，而现有焊接法制备金刚石膜‑铜复合散热片时，对金刚石厚度要求高，且需要研磨抛光处理，操作复杂，生产周期长和成本高等问题。本发明通过在硅基片表面沉积金刚石薄膜，然后将金刚石膜/硅基片整体与铜进行钎焊，最后再去除硅基片，获得金刚石‑铜复合散热片。本发明沉积金刚石膜的厚度为50‑300μm即可满足散热片的制备及应用需求，同时不需要对金刚石膜进行抛光处理，能大幅降低散热片的制备周期和成本，同时操作也更加方便。此外，采用未抛光的金刚石直接进行焊接处理，有利于在金刚石膜和铜片间获得较高的焊接强度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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