一种半导体制备扩散炉

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202022209260.3
IPC分类号：C30B31/06;C30B31/16;H01L31/18
申请日期：
2020-09-30
申请人：
云南全控机电有限公司

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著录项信息

专利名称	一种半导体制备扩散炉
申请号	CN202022209260.3	申请日期	2020-09-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C30B31/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C30 晶体生长〔3〕 C30B 单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J 3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理（用于半导体器件或元件生产的入H01L）；其所用的装置〔3〕 C30B31/00 单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺；其所用装置〔3，5〕 C30B31/06 同气态扩散材料接触的（C30B 31/18优先）〔3〕	IPC分类号	C;3;0;B;3;1;/;0;6;;;C;3;0;B;3;1;/;1;6;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人	云南全控机电有限公司	申请人地址	云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明片区经开区阿拉街道办事处云大西路39号新兴产业孵化区A幢1楼103-105号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	云南全控机电有限公司	当前权利人	云南全控机电有限公司
发明人	王家武;杨定永;张顺祥;阿凤雄;罗应强
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型公开了半导体制备技术领域的一种半导体制备扩散炉，包括扩散炉主体，所述扩散炉主体左端设置有石英炉门，所述石英炉门内侧设置有保温桶，所述扩散炉主体内部固定设置有滑道，所述滑道上滑动装配有石英舟，所述石英舟的左边设置有挡板，所述挡板通过吊环挂设在扩散炉主体内壁顶端，所述石英舟上方设置有喷淋管，所述石英舟下方设置有排废管，所述排废管旁边设置有TC管，所述喷淋管和排废管均从扩散炉主体右端穿入，所述扩散炉主体右端中间固定设置有进气管，所述进气管内侧设置有匀流板。本实用性性通过以上设计优化，结构简单，密封效果好，喷淋管喷淋均匀，保温隔热效果好，提高了扩散均匀性，实用性强。

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