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一种超晶格红外探测器表面钝化方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201710740572.7
  • IPC分类号:H01L31/0216;H01L31/101;H01L31/18
  • 申请日期:
    2017-08-25
  • 申请人:
    苏州焜原光电有限公司
著录项信息
专利名称一种超晶格红外探测器表面钝化方法
申请号CN201710740572.7申请日期2017-08-25
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2017-12-29公开/公告号CN107527958A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0216IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6;;;H;0;1;L;3;1;/;1;0;1;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人苏州焜原光电有限公司申请人地址
江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道558号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州焜原光电有限公司当前权利人苏州焜原光电有限公司
发明人陈意桥;陈超;陈晓杰
代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)代理人汤东凤
摘要
本发明一种超晶格红外探测器表面钝化方法,步骤一:取已完成台面刻蚀而未经钝化的超晶格材料样品,清洗后将样品装入高真空腔室中,真空度高于10‑6Torr;步骤二:利用原子层刻蚀技术在0‑150℃温度下对超晶格台面的表面及侧壁进行清理,以刻蚀并去除表面及侧壁上的氧化层以及前道工艺的残余污染物;步骤三:原子层刻蚀步骤结束后,在同一真空系统中利用原子层沉积技术在0‑280℃温度下逐层沉积生长钝化层,以钝化超晶格台面的表面及侧壁。本发明可有效提高台面侧向电阻率,从而抑制器件侧向漏电,提升探测器性能。

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