一种微通道板离子反馈膜的制作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110016695.9
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/08
申请日期：
2011-12-23
申请人：
中国电子科技集团公司第五十五研究所

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著录项信息

专利名称	一种微通道板离子反馈膜的制作方法
申请号	CN201110016695.9	申请日期	2011-12-23
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8查看分类表>
申请人	中国电子科技集团公司第五十五研究所	申请人地址	江苏省南京市中山东路524号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国电子科技集团公司第五十五研究所	当前权利人	中国电子科技集团公司第五十五研究所
发明人	钟伟俊;唐光华;戴丽英;王葵;孙键;申屠军;李慧蕊
代理机构	南京理工大学专利中心	代理人	唐代盛

摘要

本发明涉及一种微通道板离子反馈膜的制作方法，将光刻胶涂敷在微通道板的通道内，并使微通道板的输入端表面电极上无光刻胶；将涂好光刻胶的MCP放入烘箱中烘烤；将MCP放入磁控溅射台内样品台上，盖好模具并抽真空；待磁控溅射台真空度达到3×10-3Pa以上时溅射蒸发Al、Al2O3或SiO2薄膜；取出蒸好膜的MCP，用有机溶剂去除MCP内的光刻胶；用去离子水去除有机溶剂，然后用有机溶剂脱水；将MCP放入真空烘箱内进行烘烤，以达到坚膜和去除残留有机溶剂的目的；待烘箱冷却至室温后取出MCP。本发明制成的反馈膜具有成膜质量好，工艺操作简单，成本低，环境污染少。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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