一种多尼培南水合物晶体及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110266374.4
IPC分类号：C07D477/20;C07D477/02
申请日期：
2011-09-08
申请人：
上海希迈医药科技有限公司;江苏迪赛诺制药有限公司

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专利名称	一种多尼培南水合物晶体及其制备方法
申请号	CN201110266374.4	申请日期	2011-09-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-12-21	公开/公告号	CN102285988A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07D477/20 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07D 杂环化合物（高分子化合物入C08）〔2〕 C07D477/00 杂环化合物，含有1-氮杂二环〔3.2.0〕庚烷环系，即含下式环系的化合物： C07D477/10 有氢原子，烃基或取代的烃基，直接连在位置4，并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置2〔6〕 C07D477/12 有氢原子，烃基或取代的烃基，连在位置6〔6〕 C07D477/16 有杂原子或3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置3〔6〕 C07D477/20 硫原子〔6〕	IPC分类号	C;0;7;D;4;7;7;/;2;0;;;C;0;7;D;4;7;7;/;0;2查看分类表>
申请人	上海希迈医药科技有限公司;江苏迪赛诺制药有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张衡路1999号9幢3层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海希迈医药科技有限公司,江苏迪赛诺制药有限公司	当前权利人	上海希迈医药科技有限公司,江苏迪赛诺制药有限公司
发明人	安晓霞;吕锋;胡猛;周吴;王光华
代理机构	上海海颂知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	何葆芳

摘要

本发明公开了一种多尼培南水合物晶体及其制备方法。所述晶体的粉末X射线衍射谱图如图1所示，且晶体中的水分测定值为4.4～5.5％。所述晶体的制备是先将多尼培南粗品溶于40～70℃的水中，然后冷却至0～25℃，加入活性炭，搅拌脱色5～15分钟；过滤，将滤液降温到0～10℃，有固体析出，保温搅拌1～2小时；过滤，用异丙醇/水＝4∶1洗涤滤饼；在40～60℃，5～10mmHg下干燥至晶体中的水分测定值为4.4～5.5％。本发明提供的多尼培南水合物晶体具有纯度高、残留溶剂低、稳定性好、用药安全性高等优点。另外，本发明提供的多尼培南水合物晶体的制备方法具有工艺简单、制备成本低廉、适合工业化生产等优点。

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