脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201821036025.7
IPC分类号：C23C14/28;C23C14/54;C23C14/56
申请日期：
2018-07-02
申请人：
深圳市矩阵多元科技有限公司

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专利名称	脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统
申请号	CN201821036025.7	申请日期	2018-07-02
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/28 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/28 波能法或粒子辐射法（C23C 14/32至C23C 14/48优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;8;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;6查看分类表>
申请人	深圳市矩阵多元科技有限公司	申请人地址	广东省深圳市南山区西丽街道朗山路28号通产新兴产业园3号厂房1楼北侧变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市矩阵多元科技有限公司	当前权利人	深圳市矩阵多元科技有限公司
发明人	代瑞娜;张晓军;胡凯;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭
代理机构	深圳市华优知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	余薇

摘要

本实用新型涉及薄膜材料加工技术领域，公开了一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统。所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置，包括设置在脉冲激光沉积设备外壳上的第一水冷管以及水冷机，所述第一水冷管的端口与所述水冷机的第一端口密封连接，所述水冷机用于向所述第一水冷管循环输出水冷液。本实用新型的技术方案，使脉冲激光沉积设备的外壳及真空仓可持续降温，避免了薄膜被杂质污染和被氧化，提升了脉冲激光沉积设备薄膜制备的质量、重复性和稳定性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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