一种混合式菲涅尔透镜

发明专利有效专利

申请号：
CN202011122660.9
IPC分类号：H01Q15/02
申请日期：
2020-10-20
申请人：
刘蒎

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种混合式菲涅尔透镜
申请号	CN202011122660.9	申请日期	2020-10-20
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-12-25	公开/公告号	CN112134022A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01Q15/02 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01Q 天线（微波加热用辐射器或天线入H05B6/72） H01Q15/00 用于对天线辐射波进行反射、折射、绕射或极化的装置，例如准光学装置（用于改变方向性的可变装置入H01Q 3/00；用于引导电波的此种装置的构成入H01P 3/20；用于调制的可变装置入H03C 7/02）〔1，2006.01〕 H01Q15/02 折射或绕射装置，例如透镜或棱镜	IPC分类号	H;0;1;Q;1;5;/;0;2查看分类表>
申请人	刘蒎	申请人地址	北京市通州区东营前街5号311 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	刘蒎	当前权利人	刘蒎
发明人	刘蒎
代理机构	北京爱普纳杰专利代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	暂无

摘要

本发明提供一种混合式菲涅尔透镜，包括数个全波区，每个全波区由数个同心环透镜体及环间缝隙排列而成的子区组成，所述数个全波区包括设置于内环的平面打孔部和设置于外环的沟槽部，且所述沟槽部由所述平面打孔部内首个无法制作的子区起始设置。所述混合式菲涅尔透镜最大限度地减小了沟槽式菲涅尔透镜的阴影效应及平面打孔式菲涅尔透镜制造限制的影响，使得其具有高增益、高带宽的特点。

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