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用于液晶显示装置的阵列基板及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210260406.4
  • IPC分类号:G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/77
  • 申请日期:
    2012-07-25
  • 申请人:
    乐金显示有限公司
著录项信息
专利名称用于液晶显示装置的阵列基板及其制造方法
申请号CN201210260406.4申请日期2012-07-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-03-06公开/公告号CN102955301A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/1343IPC分类号G;0;2;F;1;/;1;3;4;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;8;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7查看分类表>
申请人乐金显示有限公司申请人地址
韩国首尔 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人乐金显示有限公司当前权利人乐金显示有限公司
发明人张斗熙;郑英燮;李政润;李柱兰;崔秀泳
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国
摘要
用于液晶显示装置的阵列基板,包括:在基板上彼此交叉以限定像素区域的栅线和数据线;与栅线隔开且平行的公共线;薄膜晶体管,位于像素区域中且与栅线和数据线相连;钝化层,位于薄膜晶体管上;以及像素电极和公共电极,交替布置以产生共面电场,其中像素电极和公共电极的每个都具有双层结构,即下层由反射性导电材料形成,上层由透明导电材料形成。另一方面,阵列基板的制造方法,包括:在基板上形成第一厚度的反射性导电层;在H2O气体条件下在反射性导电材料层上形成第二厚度的透明导电材料层;在透明导电材料层上形成光刻胶图案;以及使用光刻胶图案作为蚀刻掩模蚀刻透明导电材料层和反射性导电材料层,从而形成双层的像素电极和公共电极。

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