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非易失性存储器器件

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201320391925.4
  • IPC分类号:G11C16/02;G11C5/02
  • 申请日期:
    2013-06-25
  • 申请人:
    意法半导体股份有限公司
著录项信息
专利名称非易失性存储器器件
申请号CN201320391925.4申请日期2013-06-25
法律状态放弃专利权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11C16/02IPC分类号G;1;1;C;1;6;/;0;2;;;G;1;1;C;5;/;0;2查看分类表>
申请人意法半导体股份有限公司申请人地址
意大利阿格拉布里安扎 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人意法半导体股份有限公司当前权利人意法半导体股份有限公司
发明人F·托里切利;L·科拉朗奥;A·里奇利;Z·科瓦克斯-瓦杰纳
代理机构北京市金杜律师事务所代理人王茂华
摘要
本实用新型公开了一种非易失性存储器器件,包括:本体(12),至少容纳第一半导体阱(14)和第二半导体阱(15);绝缘结构(27);以及至少一个非易失性存储器单元(2,2’)。该单元(2,2’)包括:在第一阱(14)中的至少一个第一控制区域(16);在第二阱(15)中的传导区域(18-20);以及浮置栅极区域(23),其在第一阱(14)和第二阱(15)的一部分之上延伸,电容性地耦合到第一控制区域(16)并且与传导区域(18-20)一起形成浮置栅极存储器晶体管(30)。绝缘结构(27)包括:第一绝缘区域(28),其将浮置栅极区域(23)与第一控制区域(16)以及与传导区域(18-20)分开,并且具有第一厚度(D1);以及第二绝缘区域(29),其将浮置栅极区域(23)与第一控制区域(16)外部的第一阱(14)分开,并且具有大于第一厚度(D1)的第二厚度(D2)。

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