加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种半导体晶体生长方法和装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910357352.5
  • IPC分类号:C30B15/20;C30B15/02;C30B29/06
  • 申请日期:
    2019-04-29
  • 申请人:
    上海新昇半导体科技有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体晶体生长方法和装置
申请号CN201910357352.5申请日期2019-04-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-10-30公开/公告号CN111850681A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B15/20IPC分类号C;3;0;B;1;5;/;2;0;;;C;3;0;B;1;5;/;0;2;;;C;3;0;B;2;9;/;0;6查看分类表>
申请人上海新昇半导体科技有限公司申请人地址
上海市浦东新区临港新城云水路1000号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海新昇半导体科技有限公司当前权利人上海新昇半导体科技有限公司
发明人沈伟民;王刚;黄瀚艺;刘赟
代理机构北京市磐华律师事务所代理人董巍;高伟
摘要
本发明提供一种半导体晶体生长方法和装置。所述半导体晶体生长方法包括:获取石墨坩埚在首次用于半导体晶体生长过程时的初始位置CP0;获取所述石墨坩埚的当前生产批次N,所述当前生产批次N表征所述石墨坩埚当前用来进行的半导体晶体生长过程的次数;根据所述当前生产批次N在所述石墨坩埚内套设的石英坩埚内装入多晶硅原料,其中,所述多晶硅原料的总重量称为装料量W(N),所述装料量W(N)根据当前生产批次N进行调整,以在保持所述石墨坩埚的初始位置CP0不变的同时,使所述石英坩埚内硅熔体液面的初始位置保持稳定。根据本发明,保证了拉晶过程中各参数的稳定,提升了拉晶的速度和拉晶的质量。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供