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一种基于氮化镁薄膜的光电探测器件及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010030275.5
  • IPC分类号:H01L31/108;H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/032;H01L31/18;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58
  • 申请日期:
    2020-01-13
  • 申请人:
    吉林大学
著录项信息
专利名称一种基于氮化镁薄膜的光电探测器件及其制备方法
申请号CN202010030275.5申请日期2020-01-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-05-05公开/公告号CN111106202A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/108IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;2;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;2;3;C;1;4;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;5;8查看分类表>
申请人吉林大学申请人地址
吉林省长春市前进大街2699号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人吉林大学当前权利人吉林大学
发明人陈占国;李方野;赵纪红;刘秀环;王帅;陈曦;侯丽新;高延军
代理机构长春吉大专利代理有限责任公司代理人刘世纯;王恩远
摘要
一种基于氮化镁薄膜的光电探测器件及其制备方法,属于半导体光电探测器领域。首先采用磁控溅射或蒸镀技术在衬底上生长一层过渡金属电极,并利用湿法或干法刻蚀技术制备出叉指电极结构,然后采用反应射频磁控溅射方法在制备好叉指电极结构的衬底上生长Mg3N2薄膜,最后在Mg3N2薄膜上原位溅射生长一层BN或AlN薄膜作为Mg3N2保护层,从而得到基于Mg3N2薄膜的光电探测器件。本发明拓展了Mg3N2在光电功能材料与器件领域中的应用。BN或AlN薄膜不仅有效抑制了Mg3N2薄膜的水解,提高了Mg3N2薄膜的稳定性,而且在红外、可见光和大部分紫外波段都是透明的,是Mg3N2光电器件理想的光学窗口。

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