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温控可充气真空辐射设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110252532.0
  • IPC分类号:G21K5/00;H01L21/67
  • 申请日期:
    2011-08-30
  • 申请人:
    中国科学院微电子研究所
著录项信息
专利名称温控可充气真空辐射设备
申请号CN201110252532.0申请日期2011-08-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-02-01公开/公告号CN102339655A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G21K5/00IPC分类号G;2;1;K;5;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人中国科学院微电子研究所申请人地址
北京市朝阳区北土城西路3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院微电子研究所当前权利人中国科学院微电子研究所
发明人曾传滨;毕津顺;刘刚;罗家俊;韩郑生
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人薛峰
摘要
一种在电子元器件辐射实验中使用的温控可充气真空辐射设备,包括:限定了辐照腔的罩体;携载电子元器件容装在辐照腔内的器件盘;可开闭的封盖结构,其连接于罩体的开口端,以在闭合时气密密封辐照腔;固定于封盖结构的线缆接头;温控系统,其包括辐照腔内的温控板以及穿过封盖结构的冷媒输入和排出管路,温控板的冷媒腔室经冷媒输入和排出管路接收和排出冷媒,其电加热装置电连接到线缆接头;以及抽空充气系统,其包括穿过封盖结构的抽空充气管路和辐照腔外的第一阀门装置,以经该阀门装置和抽空充气管路对辐照腔抽空或充气。本发明的辐射设备可为电子元器件辐射实验准确提供各种温度、气体成分环境,有利满足了电子元器件辐射效应研究的需求。

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