成像装置

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专利名称	成像装置
申请号	CN200610153851.5	申请日期	2006-09-13
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-05-30	公开/公告号	CN1971436
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03G15/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03G 电记录术；电照相；磁记录（依靠记录载体与传感器之间的相对运动存储信息入G11B；具有写入或读出信息装置的静态存储入G11C；电视信号的记录入H04N 5/76） G03G15/00 应用电荷图形的电记录工艺的设备（G03G 16/00，G03G 17/00优先）〔2，5〕 G03G15/02 用于沉积均匀电荷的，即感光用的；电晕放电装置（G03G 15/14优先）〔6〕	IPC分类号	G;0;3;G;1;5;/;0;2;;;G;0;3;G;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	富士施乐株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	富士施乐株式会社	当前权利人	富士施乐株式会社
发明人	小林政宪;山本光雄;石井康友
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	党晓林;徐敏刚

摘要

本发明提供一种成像装置。该成像装置包括待清洁部件和清洁件，该清洁件由具有多个泡沫孔的泡沫材料形成，该清洁件通过接触所述待清洁部件并摩擦所述待清洁部件而清洁所述待清洁部件。在所述清洁件表面中的多个泡沫孔的任一个中，沿摩擦方向的最大长度A和沿垂直于所述摩擦方向的方向的最大长度B满足A＜B的关系。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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