一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用

发明专利有效专利

申请号：
CN202110692322.7
IPC分类号：C08F220/24;C08F212/14;C08F220/14;C08F220/34;C09D4/02;C09D4/06
申请日期：
2021-06-22
申请人：
上海交通大学

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专利名称	一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用
申请号	CN202110692322.7	申请日期	2021-06-22
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-28	公开/公告号	CN113444199A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08F220/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08F 仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物（由低碳烃制造液态烃混合物，例如通过齐聚作用入C10G 50/00；发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P；含有碳-碳不饱和键的单体接枝聚合到纤维、丝线、纱线、织物或用这些材料制成的纤维制品入D06M 14/00）〔2〕 C08F220/00 具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个是仅以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端〔2〕 C08F220/02 具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物〔2〕 C08F220/10 酯〔2〕 C08F220/22 含卤素的酯〔2〕 C08F220/24 含全卤烷基〔2〕	IPC分类号	C;0;8;F;2;2;0;/;2;4;;;C;0;8;F;2;1;2;/;1;4;;;C;0;8;F;2;2;0;/;1;4;;;C;0;8;F;2;2;0;/;3;4;;;C;0;9;D;4;/;0;2;;;C;0;9;D;4;/;0;6查看分类表>
申请人	上海交通大学	申请人地址	上海市闵行区东川路800号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海交通大学	当前权利人	上海交通大学
发明人	姜学松;高夏鑫;李甜甜
代理机构	上海恒慧知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	张宁展

摘要

本发明提出了一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用，属于光固化技术领域。其中，含氟光敏聚合物采用含共引发剂胺的烯烃基单体、含氟碳链的烯烃基单体、含光敏二聚分子的烯烃基单体以及普通的烯烃基单体进行自由基共聚反应制备得到。本发明制备的图案化光固化涂层由丙烯酸酯类树脂及单体组成，在小分子光引发剂及含氟光敏剂的配合使用下，通过紫外光照射发生的梯度二聚反应及聚合反应使表面发生自褶皱。且在紫外光透过光掩模照射后可在特定区域内产生多层次褶皱。根据本发明制备的图案化光固化涂层可应用于防伪及芯片封装。

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