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基板处理装置和基板处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310230866.7
  • IPC分类号:H01L21/306
  • 申请日期:
    2013-06-09
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置和基板处理方法
申请号CN201310230866.7申请日期2013-06-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-01-15公开/公告号CN103515220A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/306
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;6查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人河野央;伊藤规宏;八谷洋介;野上淳;大石幸太郎;菅野至
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;张会华
摘要
本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在不对基板的基底层造成损伤的情况下良好地将去除对象层去除。在本发明中,基板处理装置(1)用于向在基底层的表面上形成有去除对象层的基板(3)供给硫酸与过氧化氢水的混合液而将去除对象层去除,包括:基板处理室(16),用于处理基板;基板保持部件(12),设于基板处理室内,用于保持基板;混合液供给部件(13),用于以不会对基底层造成损伤的温度和过氧化氢水的混合比向由基板保持部件保持着的基板供给硫酸与过氧化氢水的混合液;OH基供给部件(14),用于向基板供给含有OH基的流体,OH基供给部件供给含有在混合液与OH基在基板上混合时不会对基底层造成损伤的量的OH基的流体。

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